|
| MOQ: | 1 kg |
| Prijs: | US $500/kg |
| Standaardverpakking: | Cylinder/tank |
| Leveringstermijn: | 15 dagen |
| Betalingswijze: | L/C, T/T |
| Toeleveringskapaciteit: | 2000 ton/Jaar |
NF3 gas verwijst naar stikstoftrifluoride in zijn gasvorm.Het wordt vaak gebruikt in verschillende industriële toepassingen vanwege zijn unieke eigenschappenHier zijn enkele belangrijke punten over NF3-gas:
Chemische samenstelling: NF3 bestaat uit één stikstof (N) atoom gebonden aan drie fluor (F) atomen.
Fysieke eigenschappen: NF3 is een niet-ontvlambaar gas met een kookpunt van -129 graden Celsius (-200 graden Fahrenheit) en een smeltpunt van -206 graden Celsius (-339 graden Fahrenheit).Het is iets dichter dan lucht en blijft in een gasvorm bij kamertemperatuur en normale atmosferische druk.
Gebruik: NF3-gas heeft verschillende industriële toepassingen:
Elektronicaproductie: Het wordt vaak gebruikt in de elektronica-industrie als reinigingsmiddel voor het verwijderen van residuen uit siliciumwafers, kamers,en andere elektronische componenten tijdens het productieprocesHet NF3-gas wordt de voorkeur gegeven vanwege zijn lage reactiviteit met veel materialen en zijn vermogen om fluorinated verbindingen effectief te verwijderen.
Plasma-etsen: NF3 wordt gebruikt als plasma-etser in de halfgeleiderindustrie.Het wordt gebruikt voor het selectief verwijderen van materialen van het oppervlak van siliciumwafers en andere substraten tijdens de fabricage van micro-elektronica.
Vervaardiging van platte schermen: NF3-gas wordt ook gebruikt bij de productie van platte schermen, zoals vloeibare kristallen schermen (LCD's) en plasma-schermen.Het wordt gebruikt voor het reinigen en etsen van processen tijdens de productie van deze displays.
Zonnepanelen: NF3 vindt toepassing bij de productie van dunnefolie fotovoltaïsche cellen die in zonnepanelen worden gebruikt.
Fluoriserend middel: Het kan worden gebruikt als fluoriserend middel in verschillende chemische reacties om fluoratoomen in organische moleculen te introduceren.
Veiligheidsoverwegingen: hoewel NF3 niet ontvlambaar is, is het nog steeds belangrijk om er voorzichtig mee om te gaan en de juiste veiligheidsmaatregelen te volgen.het kan zuurstof verdringen in gesloten ruimtesBij het werken met NF3-gas dient een adequate ventilatie te worden gewaarborgd en moeten passende veiligheidsrichtlijnen en -apparatuur worden gevolgd.
Bij het hanteren van NF3-gas wordt aanbevolen de veiligheidsprotocollen te volgen, passende beschermingsmiddelen te gebruiken en een goede ventilatie in het werkgebied te waarborgen om een veilige omgeving te behouden.
Basisinformatie
| Transportpakket: | 47L, 440L | Smeltepunt | -206,79°C |
| Handelsmerk: | CMC | Kookpunt | -129,0 °C |
| Specificatie | 100.00% | Productiecapaciteit | 5000 ton/jaar |
| Cylinderdruk | 15MPa/20MPa | Valve | Qf-30A/Cga350 |
| Uiterlijk | Kleurloos, geurloos | Dichtheid | 20,96 kg/m3 |
Specificaties:
| Specificaties | Bedrijfsnorm |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| CO | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Vocht | ≤1 ppm |
| Uitgedrukt als HF | ≤1 ppm |
Gedetailleerde foto
|
|
| MOQ: | 1 kg |
| Prijs: | US $500/kg |
| Standaardverpakking: | Cylinder/tank |
| Leveringstermijn: | 15 dagen |
| Betalingswijze: | L/C, T/T |
| Toeleveringskapaciteit: | 2000 ton/Jaar |
NF3 gas verwijst naar stikstoftrifluoride in zijn gasvorm.Het wordt vaak gebruikt in verschillende industriële toepassingen vanwege zijn unieke eigenschappenHier zijn enkele belangrijke punten over NF3-gas:
Chemische samenstelling: NF3 bestaat uit één stikstof (N) atoom gebonden aan drie fluor (F) atomen.
Fysieke eigenschappen: NF3 is een niet-ontvlambaar gas met een kookpunt van -129 graden Celsius (-200 graden Fahrenheit) en een smeltpunt van -206 graden Celsius (-339 graden Fahrenheit).Het is iets dichter dan lucht en blijft in een gasvorm bij kamertemperatuur en normale atmosferische druk.
Gebruik: NF3-gas heeft verschillende industriële toepassingen:
Elektronicaproductie: Het wordt vaak gebruikt in de elektronica-industrie als reinigingsmiddel voor het verwijderen van residuen uit siliciumwafers, kamers,en andere elektronische componenten tijdens het productieprocesHet NF3-gas wordt de voorkeur gegeven vanwege zijn lage reactiviteit met veel materialen en zijn vermogen om fluorinated verbindingen effectief te verwijderen.
Plasma-etsen: NF3 wordt gebruikt als plasma-etser in de halfgeleiderindustrie.Het wordt gebruikt voor het selectief verwijderen van materialen van het oppervlak van siliciumwafers en andere substraten tijdens de fabricage van micro-elektronica.
Vervaardiging van platte schermen: NF3-gas wordt ook gebruikt bij de productie van platte schermen, zoals vloeibare kristallen schermen (LCD's) en plasma-schermen.Het wordt gebruikt voor het reinigen en etsen van processen tijdens de productie van deze displays.
Zonnepanelen: NF3 vindt toepassing bij de productie van dunnefolie fotovoltaïsche cellen die in zonnepanelen worden gebruikt.
Fluoriserend middel: Het kan worden gebruikt als fluoriserend middel in verschillende chemische reacties om fluoratoomen in organische moleculen te introduceren.
Veiligheidsoverwegingen: hoewel NF3 niet ontvlambaar is, is het nog steeds belangrijk om er voorzichtig mee om te gaan en de juiste veiligheidsmaatregelen te volgen.het kan zuurstof verdringen in gesloten ruimtesBij het werken met NF3-gas dient een adequate ventilatie te worden gewaarborgd en moeten passende veiligheidsrichtlijnen en -apparatuur worden gevolgd.
Bij het hanteren van NF3-gas wordt aanbevolen de veiligheidsprotocollen te volgen, passende beschermingsmiddelen te gebruiken en een goede ventilatie in het werkgebied te waarborgen om een veilige omgeving te behouden.
Basisinformatie
| Transportpakket: | 47L, 440L | Smeltepunt | -206,79°C |
| Handelsmerk: | CMC | Kookpunt | -129,0 °C |
| Specificatie | 100.00% | Productiecapaciteit | 5000 ton/jaar |
| Cylinderdruk | 15MPa/20MPa | Valve | Qf-30A/Cga350 |
| Uiterlijk | Kleurloos, geurloos | Dichtheid | 20,96 kg/m3 |
Specificaties:
| Specificaties | Bedrijfsnorm |
| NF3 | ≥ 99,996% |
| CF4 | ≤20 ppm |
| N2 | ≤5 ppm |
| O2+AR | ≤3 ppm |
| CO | ≤1 ppm |
| CO2 | ≤0.5 ppm |
| N2O | ≤1 ppm |
| SF6 | ≤2 ppm |
| Vocht | ≤1 ppm |
| Uitgedrukt als HF | ≤1 ppm |
Gedetailleerde foto
