|
| MOQ: | 1 kg |
| Prijs: | US $40/kg |
| Standaardverpakking: | Cylinder/tank |
| Leveringstermijn: | 15 dagen |
| Betalingswijze: | L/C, T/T |
| Toeleveringskapaciteit: | 50000kg/Month |
Hexachlorodisilan (Si2Cl6) is een anorganische verbinding bestaande uit twee silicium (Si) atomen die aan zes chloor (Cl) atomen zijn gebonden.Het is een kleurloos gas dat voornamelijk wordt gebruikt als voorloper bij de productie van siliciummaterialenHier zijn enkele belangrijke punten over hexachlorodisilanegas:
Structuur en eigenschappen: Hexachlorodisilan heeft een tetraëdre moleculaire structuur, waarbij elk siliciumatoom gebonden is aan drie chlooratomen en het andere siliciumatoom.Het is een vluchtige en reactieve verbinding, met een kookpunt van ongeveer 140 °C.
Synthese en productie: Hexachlorodisilan wordt typisch gesynthetiseerd door de reactie van siliciumtetrachloride (SiCl4) met elementair silicium (Si) of siliciumpoeder bij hoge temperaturen.Het kan ook worden geproduceerd door de reactie van silicium met chloorgas (Cl2).
Toepassingen:
Halfrondindustrie: hexachloordisilan is een cruciale voorloper bij de productie van verschillende op silicium gebaseerde dunne folies voor de halfgeleiderindustrie.Het wordt gebruikt in chemische dampdepositie (CVD) en atomaire laagdepositie (ALD) processen om siliciumhoudende lagen met een hoge zuiverheid en uniformiteit te deponeren.
Productie van siliciumnitride: hexachloordisilan kan worden gebruikt als voorloper voor de synthese van siliciumnitride (Si3N4) keramiek.met een vermogen van meer dan 10 W,, snijgereedschap en beschermende coatings.
Oppervlaktewijziging: hexachloordisilan wordt gebruikt als oppervlaktebehandelingsmiddel om de oppervlakte-eigenschappen van materialen te wijzigen.Verbeteren van de hechting, of chemische weerstand bieden tegen oppervlakken.
Veiligheidsoverwegingen: Hexachlorodisilan is een zeer reactieve en vluchtige verbinding die corrosief is voor metalen en bij aanraking met de huid of de ogen ernstige brandwonden kan veroorzaken.Het is ook giftig als het wordt ingeademd of ingenomen.Bij het werken met hexachloordisilan of andere gevaarlijke chemicaliën dient de juiste behandeling, opslag en persoonlijke beschermingsmiddelen te worden gebruikt.
Hexachlorodisilanegas is een belangrijke voorloper in de halfgeleiderindustrie en de productie van op silicium gebaseerde materialen.De reactiviteit en het vermogen om siliciumfolie van hoge kwaliteit af te leggen, maken het waardevol voor verschillende technologische toepassingenHet moet echter met voorzichtigheid worden behandeld vanwege de gevaarlijke eigenschappen.
Basis informatie.
| Model nr. | Si2Cl6 | Gradenstandaard | Elektronenklasse |
| Transportpakket | Cylinder, blik | Specificatie | 40L, 200L |
| Handelsmerk | CMC | Oorsprong | Suzhou, China |
| HS-code | 2812190091 | Productiecapaciteit | 100 t/jaar |
Specificaties:
| IUPAC-naam | Hexachloordisilan |
| Andere namen | Disiliciumhexachloride |
| Identificatiegegevens | |
| CAS-nummer: | 13465-77-5 |
| EG-nr.: | 236-704-1 |
| Eigenschappen | |
| Moleculaire formule: | Si2Cl6 |
| Molarmassa: | 2680,88 g/mol |
| Uiterlijk: | Kleurloze vloeistof |
| Smeltpunt: | ≤ 20 °C |
| Kookpunt: | 144 °C (291 °F; 417 K) |
| Vlampunt: | > 93°C |
| Vpordichtheid ((Lucht=1): | > 1 |
| Relatieve dichtheid ((Water=1)): | 1.562 |
| Testpunten | Eenheden | Specificaties | Testresultaat |
| Bepaling door GC | wt% | ≥ 99.9 | 99.905 |
| Li | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| - Nee. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Mg | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Al | ng/g | ≤ 1.0 | 0.35 |
| K | ng/g | ≤ 0.5 | 0.08 |
| Ca. | ng/g | ≤ 0.5 | 0.16 |
| Ti | ng/g | ≤ 1.0 | 0.18 |
| Cr | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Deeltjes | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Fe | ng/g | ≤ 1.0 | 0.48 |
| Co. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Ni | ng/g | ≤ 0.5 | 0.06 |
| C. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Zn | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
|
|
| MOQ: | 1 kg |
| Prijs: | US $40/kg |
| Standaardverpakking: | Cylinder/tank |
| Leveringstermijn: | 15 dagen |
| Betalingswijze: | L/C, T/T |
| Toeleveringskapaciteit: | 50000kg/Month |
Hexachlorodisilan (Si2Cl6) is een anorganische verbinding bestaande uit twee silicium (Si) atomen die aan zes chloor (Cl) atomen zijn gebonden.Het is een kleurloos gas dat voornamelijk wordt gebruikt als voorloper bij de productie van siliciummaterialenHier zijn enkele belangrijke punten over hexachlorodisilanegas:
Structuur en eigenschappen: Hexachlorodisilan heeft een tetraëdre moleculaire structuur, waarbij elk siliciumatoom gebonden is aan drie chlooratomen en het andere siliciumatoom.Het is een vluchtige en reactieve verbinding, met een kookpunt van ongeveer 140 °C.
Synthese en productie: Hexachlorodisilan wordt typisch gesynthetiseerd door de reactie van siliciumtetrachloride (SiCl4) met elementair silicium (Si) of siliciumpoeder bij hoge temperaturen.Het kan ook worden geproduceerd door de reactie van silicium met chloorgas (Cl2).
Toepassingen:
Halfrondindustrie: hexachloordisilan is een cruciale voorloper bij de productie van verschillende op silicium gebaseerde dunne folies voor de halfgeleiderindustrie.Het wordt gebruikt in chemische dampdepositie (CVD) en atomaire laagdepositie (ALD) processen om siliciumhoudende lagen met een hoge zuiverheid en uniformiteit te deponeren.
Productie van siliciumnitride: hexachloordisilan kan worden gebruikt als voorloper voor de synthese van siliciumnitride (Si3N4) keramiek.met een vermogen van meer dan 10 W,, snijgereedschap en beschermende coatings.
Oppervlaktewijziging: hexachloordisilan wordt gebruikt als oppervlaktebehandelingsmiddel om de oppervlakte-eigenschappen van materialen te wijzigen.Verbeteren van de hechting, of chemische weerstand bieden tegen oppervlakken.
Veiligheidsoverwegingen: Hexachlorodisilan is een zeer reactieve en vluchtige verbinding die corrosief is voor metalen en bij aanraking met de huid of de ogen ernstige brandwonden kan veroorzaken.Het is ook giftig als het wordt ingeademd of ingenomen.Bij het werken met hexachloordisilan of andere gevaarlijke chemicaliën dient de juiste behandeling, opslag en persoonlijke beschermingsmiddelen te worden gebruikt.
Hexachlorodisilanegas is een belangrijke voorloper in de halfgeleiderindustrie en de productie van op silicium gebaseerde materialen.De reactiviteit en het vermogen om siliciumfolie van hoge kwaliteit af te leggen, maken het waardevol voor verschillende technologische toepassingenHet moet echter met voorzichtigheid worden behandeld vanwege de gevaarlijke eigenschappen.
Basis informatie.
| Model nr. | Si2Cl6 | Gradenstandaard | Elektronenklasse |
| Transportpakket | Cylinder, blik | Specificatie | 40L, 200L |
| Handelsmerk | CMC | Oorsprong | Suzhou, China |
| HS-code | 2812190091 | Productiecapaciteit | 100 t/jaar |
Specificaties:
| IUPAC-naam | Hexachloordisilan |
| Andere namen | Disiliciumhexachloride |
| Identificatiegegevens | |
| CAS-nummer: | 13465-77-5 |
| EG-nr.: | 236-704-1 |
| Eigenschappen | |
| Moleculaire formule: | Si2Cl6 |
| Molarmassa: | 2680,88 g/mol |
| Uiterlijk: | Kleurloze vloeistof |
| Smeltpunt: | ≤ 20 °C |
| Kookpunt: | 144 °C (291 °F; 417 K) |
| Vlampunt: | > 93°C |
| Vpordichtheid ((Lucht=1): | > 1 |
| Relatieve dichtheid ((Water=1)): | 1.562 |
| Testpunten | Eenheden | Specificaties | Testresultaat |
| Bepaling door GC | wt% | ≥ 99.9 | 99.905 |
| Li | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| - Nee. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Mg | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Al | ng/g | ≤ 1.0 | 0.35 |
| K | ng/g | ≤ 0.5 | 0.08 |
| Ca. | ng/g | ≤ 0.5 | 0.16 |
| Ti | ng/g | ≤ 1.0 | 0.18 |
| Cr | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Deeltjes | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Fe | ng/g | ≤ 1.0 | 0.48 |
| Co. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Ni | ng/g | ≤ 0.5 | 0.06 |
| C. | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
| Zn | ng/g | ≤ 0.5 | < 0.05 |
